- ソウルとの関係をさらに進めるという舛添に無職呆然©2ch.net
43 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:03:31.02 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- ウヨが愛する竹島の島根県が反バカウヨ集会w [転載禁止]©2ch.net
3 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:03:50.64 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 韓国への移住を考える奥様 Part.4©2ch.net
357 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:04:19.30 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- バカウヨ煽りに耐え切れず自治スレに泣きつく2 [転載禁止]©2ch.net
194 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:04:37.24 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 対馬って、本当はどっちの領土なの?(´・ω・`) [転載禁止]©2ch.net
61 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:04:57.17 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 2015年韓日友好祈願スレin既婚女性板 [転載禁止]©2ch.net
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- ■■ネトウヨはバカという昨今の風潮2■■©2ch.net
2 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:05:29.40 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- アンチネトウヨが日本人である事が受け入れられない奥様6 [転載禁止]©2ch.net
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- 釜山の魅力 [転載禁止]©2ch.net
10 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:05:54.54 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 山田洋次「自虐史観と攻撃するネトウヨはバカ」2©2ch.net
29 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:06:07.54 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 中年童貞キモヲタと一緒にネトウヨやってるアホな奥様 Part.2 [転載禁止]©2ch.net
40 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:06:19.31 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- バカウヨにありがちなことvol.7©2ch.net
9 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:06:31.73 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 日本人牧師「中年童貞無職はみなネトウヨになるんだよ2 [転載禁止]©2ch.net
3 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:06:44.04 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 無職がいくら嫌韓工作しても企業は嫌韓にならないね [転載禁止]©2ch.net
26 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:07:19.72 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- 韓国嫌いになれって、バカウヨがキモくて無理w★5 [転載禁止]©2ch.net
22 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:08:27.37 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- ◆◇◆ バカウヨ無職が韓国に好感を抱く©2ch.net
19 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:08:43.20 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- ちょっと!その書き込み髭無職です!! Part.5 [転載禁止]©2ch.net
3 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:09:24.29 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- ■■■ 今日も必死な嫌韓ゴリ押し無職 Part.2 [転載禁止]©2ch.net
5 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:09:38.65 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- 朝鮮の濃い血を受け継ぐバカウヨ無職がまた犯罪 [転載禁止]©2ch.net
5 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:09:50.70 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- 宋文洲さん「バカウヨはマヌケが多い」©2ch.net
14 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:10:14.89 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- ネトウヨがイライラしてるのがとても 愉 快 [転載禁止]©2ch.net
8 :可愛い奥様@転載は禁止[]:2015/02/05(木) 20:10:28.39 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約 【Impress Watch】 (2015/2/5 15:25) 株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、 韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。 東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で 行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。 従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。 東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に 和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。 ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html プレスリリース: 次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について SKハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結 http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm 関連スレッド: 【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19] http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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