- ネトウヨの不幸でﾒｼｳﾏﾆｭｰｽが来たらage るスレ7
526 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:50:21.07 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
関連スレッド:
【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- ★ネトウヨってなんで既女板に居座ってるの？★2©2ch.net
163 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:50:39.32 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
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- 経団連「2030年までに日本のGDPは韓国に抜かれる11©2ch.net
107 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:50:53.48 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- 何で現実社会では嫌韓が全く広まらないの？★3©2ch.net
185 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:51:05.80 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
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- 韓国が羨ましい。韓国人が羨ましい。 Part.2 [転載禁止]©2ch.net
195 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:51:18.97 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
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- 生まれ変わったら韓国人になりたい奥様5©2ch.net
104 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:51:32.71 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
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東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
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- 鬼女板の半数は30,40代のﾋｷﾆｰﾄ低所得ﾈﾄｳﾖの現実©2ch.net
111 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:51:50.52 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
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- 英・名門大で韓国学がﾌﾞｰﾑ 日本でもお願いします3©2ch.net
164 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:52:37.14 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
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- 日本はなぜ何をやらせても韓国に劣るのか？2 [転載禁止]©2ch.net
69 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:52:50.53 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- 二階議員と韓国に行きたい奥様★1 [転載禁止]©2ch.net
51 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:53:08.09 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- 日本人と韓国人は深い関係にある 仲良くしよう4©2ch.net
92 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:53:20.14 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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- あぁ～韓国が好きで好きでたまらない～！！③©2ch.net
57 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:53:32.56 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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- 韓国・中国との友好、交流を確認したらageるスレ10©2ch.net
40 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:53:49.69 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
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- やっぱり韓国が大好きvol.113©2ch.net
47 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:54:02.11 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
関連スレッド:
【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- 一般人「韓国さよなら祭り？それﾊﾞｶｳﾖの妄想ｗ」16©2ch.net
17 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:54:19.25 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
関連スレッド:
【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- 【ｻﾑｽﾝ】韓国家電製品が大好きな奥様10【LG電子】©2ch.net
23 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:54:31.51 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- まともな人はみんなネトウヨが大嫌い！！ Part.4 [転載禁止]©2ch.net
20 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:54:43.65 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- ﾊﾞｶｳﾖは単に頭が悪いだけと科学的に明らかになる6©2ch.net
38 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:54:56.79 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
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東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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- なぜ無職や底辺は韓国をライバル視するのか？6©2ch.net
10 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:55:09.33 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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- お願いだから、韓国嫌いになってよ！！ Part.13©2ch.net
28 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:55:21.17 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
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- 中国・韓国・北朝鮮が大好きな奥様72©2ch.net
43 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:55:33.40 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- 日本人牧師「在日叩いたって、底辺は底辺なんだよ3 [転載禁止]©2ch.net
5 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:55:46.57 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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- 韓日国交正常化50周年を祝うスレ★2©2ch.net
75 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:56:09.11 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- 日本人であることが唯一誇りのバカウヨ Part.6 [転載禁止]©2ch.net
53 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:56:21.98 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- ネトウヨの正体は低学歴無職底辺 Part.6 [転載禁止]©2ch.net
72 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:56:35.39 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
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- ひろゆき「ﾈﾄｳﾖは何で韓国の掲示板で主張しないの?5©2ch.net
3 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:56:51.08 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
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韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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- ﾈﾄｳﾖ嫌いが全員在日だと思ってるおめでたい奥様★5 [転載禁止]©2ch.net
3 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:57:02.90 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
関連スレッド:
【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
http://daily.2ch.net/test/read.cgi/newsplus/1418982739/
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- 【可愛い奥様】チマチョゴリ通信vol.8【新聞部】 [転載禁止]©2ch.net
38 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:57:21.07 ID:6p/Z5G+e0 - 1 ゆでたてのたまご ★ 転載ダメ©2ch.net sageteoff 2015/02/05(木) 16:30:09.39 ID:???
東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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- 韓国どころか国内も敵だらけのバカウヨ Part.7©2ch.net
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東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
【Impress Watch】 （2015/2/5 15:25）
株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
http://www.toshiba.co.jp/about/press/2015_02/pr_j0501.htm
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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- 移民希望の韓国会社員とﾊﾞｶｳﾖ無職を取り替えよう！2 [転載禁止]©2ch.net
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東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
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- 日本が大好きなのに日本人から嫌われるﾈﾄｳﾖ7©2ch.net
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東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
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ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
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次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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- 教育の質世界一は韓国 質が劣る日本は嫌韓無職増殖4 [転載禁止]©2ch.net
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東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
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- 今年こそ就職して韓国を忘れたい髭奥様 Part.2 [転載禁止]©2ch.net
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東芝とSK Hynix、次世代半導体露光技術の共同開発で正式契約
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株式会社東芝は、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(NIL)の共同開発で、
韓国SK Hynixと正式契約を締結したことを発表した。
東芝では、半導体製造装置メーカーや材料メーカー各社と共同でNILの開発を進めてきたが、SK Hynixと共同で
行なうことでそのプロセス開発を加速し、2017年の実用化を目指す。
従来のフォトリソグラフィは回路パターンを描いたフォトマスクの上からレーザー光を照射して
シリコンウェハに転写するのに対し、NILは回路パターンが彫り込まれた型をウェハに直接押し当てて転写する
ことで、メモリを始めとする半導体のさらなる微細化に期待が掛けられている。
東芝は、NANDフラッシュメモリ技術にの機密情報流出について2014年3月にSK Hynixを提訴したが、同12月に
和解が成立。和解の際に、NILの共同開発についても合意していた。
ソース: http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/20150205_687068.html
プレスリリース:
次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発加速について
ＳＫハイニックス社と共同開発に関して正式契約を締結
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【社会】東芝、NANDフラッシュの機密情報流出でSK Hynixと和解 [転載禁止][2014/12/19]
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145 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 19:59:43.44 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
http://yomogi.2ch.net/test/read.cgi/news4plus/1423096652/
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52 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 20:00:07.60 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
http://yomogi.2ch.net/test/read.cgi/news4plus/1423096652/
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http://yomogi.2ch.net/test/read.cgi/news4plus/1423096652/
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47 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 20:02:22.15 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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22 ：可愛い奥様＠転載は禁止[]：2015/02/05(木) 20:02:49.07 ID:6p/Z5G+e0 - 【長崎】「朝鮮通信使」の記憶遺産登録…16年日韓共同申請へ、長崎県が積極支援約束[02/05]©2ch.net
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- 札幌で韓日友情祭り開催！韓国ｻﾖﾅﾗ祭りはないよw©2ch.net
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